ЕС и США разрабатывают новую стратегию противостояния технологическому влиянию Китая

Евросоюз совместно с США приступили к разработке новой стратегии противостояния влиянию Китая, которая включает в себя установление стандартов передовых и экологически чистых технологий. Об этом, со ссылкой на Financial Times, сообщает ТАСС.

Брюссель намерен самым тесным образом работать с Вашингтоном над мониторингом новых стандартов, позволяющих выработать единую позицию в отношении нормотворчества в сфере технологий и использовать совместные ресурсы стран, участниц технологического проекта. Официальные лица ЕС и США обеспокоены тем, что Китай добился успеха в лоббировании ключевых организаций, устанавливающих технологические стандарты,и которые продвигают интересы Китая. Такие как Международный союз электросвязи и Международная электротехническая комиссия.

Сообщается также, что стороны будут проводить регулярные встречи представителей Совета по торговле и технологиям. Этот совместный проект станет ответом на разрабатываемую Пекином новую стратегию под названием “Китайские стандарты до 2035 года”, призванную установить международные нормы в таких областях, как связь пятого поколения (5G) и искусственный интеллект.

“Конкурентоспособность Европы, технологический суверенитет и продвижение ценностей ЕС, высочайшие социальные и экологические амбиции будут зависеть от того, насколько успешны европейские игроки на международном уровне”

, – отмечается в проекте документа.

“Это стратегическое решение

Очень важно, кто устанавливает стандарты, потому что они должны обеспечивать работу рынка, а не затруднять инновации”.

, – заявила заместитель председателя Еврокомиссии Маргрете Вестагер. – 

Европа должна оставить за собой право устанавливать международные стандарты, которые бы определяли развитие в самых различных областях – от систем распознавания лиц и до следующего поколения экологических инноваций. ЕС будет стремиться реализовать подобный план “как можно быстрее”, добавила госпожа Вестагер.

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *